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www.purewaterone.com/article/detail/992.html 2024-10-25
www.purewaterone.com/article/detail/106.html 2024-09-05
www.purewaterone.com/article/detail/402.html 2023-01-07
多晶硅超纯水设备主要用在多晶硅片清洗中,多晶硅片、半导体元器件生产中硅片须经过严格清洗,微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有...
www.purewaterone.com/article/detail/306.html 2021-12-17
多晶硅超纯水设备主要用在多晶硅片清洗中,多晶硅片,半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污...
www.purewaterone.com/article/detail/41.html 2021-10-18
www.purewaterone.com/article/detail/42.html 2017-11-23
www.purewaterone.com/article/detail/47.html 2017-11-21