半导体超纯水处理工艺和对管道的要求|纯水一号超纯水处理

随着电子工业的发展,在芯片的生产加工过程中,对于水质的要求也越来越高。为了保证生产出超大规模的集成电路,除高纯原材料、高纯气体、高纯化学药品外,高纯水也是其中最关键的因素之一。

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www.purewaterone.com/article/detail/334.html         2022-06-24

电子半导体超纯水生产工艺及管道要求

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1.超纯水系统总体介绍 随着电子工业的发展,在芯片的生产加工过程中,对于水质的要求也越来越高。为了保证生产出超大规模的集成电路,除高纯原材料、高纯气体、高纯化学药品外,高纯水也是其中最关键的因素之一。高纯水系统是将一般的市政用水处理成对

www.purewaterone.com/article/detail/333.html         2022-06-24

光伏超纯水设备由哪些配件组成

太阳能光伏行业用水包括单晶硅、多晶硅、硅片切割、太阳能电池、半导体硅材料等工艺用纯水和超纯水。我们需要根据产品的用水需求和工艺设计，来选择不同的产品配置。

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www.purewaterone.com/article/detail/331.html         2022-06-07

GE模块EDI超纯水设备MK-3

型号：MK-3标准产水流量：3.4m3/hr（15.0gm）产水流量范围：1.7-4.5m3/hr（7.5-20.0gm）装运重量：92kg（202l）进水压力：4.8-6.9ar(70-100i)标准流量下的压降：1.4-2.4ar（20-35i）尺寸（宽×高×深）：30cm×61cm×48cm（12”×24”...

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www.purewaterone.com/product/detail/109.html         2022-06-06

纯水一号太阳能光伏超纯水处理设备出货

浙江某大型新能源科技有限公司是一家以晶体硅太阳能电池、电池组件、光伏发电系统设备的研发、制造、加工为一体的高新科技企业。在太阳能电池生产的前端工艺，单晶硅、多晶硅棒的提纯、切削、研磨、清洗都需要大量的超纯水

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www.purewaterone.com/article/detail/329.html         2022-05-10

纯水一号超纯水处理用紫外线杀菌器10T/30T/60T/90T紫外线消毒器

紫外线是一种肉眼无法看见的光线，根据波长的不同可细分UVB（315~400nm）UVB（280~315nm）UVC（200~280nm）。UVC最易被DNA（核糖核酸）吸收，紫外线消毒系统就是使用UVC。

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www.purewaterone.com/product/detail/145.html         2022-05-10

纯水一号发往泰国90T/H超纯水设备顺利装柜

2022年3月22日，深圳市纯水一号水处理科技有限公司90T/H超纯水设备顺利装柜，即将发往泰国。此次项目采用的是ASS+UF+2RO+EDI+SMB全膜法工艺，极大的节省了设备的占地面积和人工操作成本。

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www.purewaterone.com/article/detail/326.html         2022-03-22

超纯水设备在半导体芯片制程中的作用

芯片制造对水质的要求是极其苛刻的，尤其是越高端的芯片，对水质的要求就更高。对于大众来说，平时接触的自来水（饮用水）的浑浊度小于1NTU（根据现行《生活饮用水卫生标准》GB 5749-2006）。这样的自来水在肉眼看来，就已经非常干净了。但是，这在电子行业，尤...

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www.purewaterone.com/article/detail/320.html         2022-03-11

湖南蓝思手机玻璃清洗超纯水项目出货

三月初春，天气回暖，万物复苏，深圳市纯水一号水处理科技有限公司迎来了2022年开年的第一个项目出货。

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www.purewaterone.com/article/detail/319.html         2022-03-07

OLED超纯水设备工艺流程

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液晶面板制造流程包括：ITO 玻璃的投入（grading）--玻璃清洗与干燥（CLEANING）--涂光刻胶（PRCOA T）--前烘烤（PREBREAK）--曝光（DEVELOP）显影（MAIN CURE）--蚀刻 （ETCHING）--去膜（STRIP CLEAN）--图检（INSP）--清洗干燥（CLEAN）--TOP涂

www.purewaterone.com/article/detail/311.html         2021-12-30

TFT-LED超纯水工艺流程

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液晶面板制造流程包括：ITO 玻璃的投入（grading）--玻璃清洗与干燥（CLEANING）--涂光刻胶（PRCOA T）--前烘烤（PREBREAK）--曝光（DEVELOP）显影（MAIN CURE）--蚀刻 （ETCHING）--去膜（STRIP CLEAN）--图检（INSP）--清洗干燥

www.purewaterone.com/article/detail/310.html         2021-12-30

电子半导体超纯水设备工艺介绍及施工要求

超纯水在集成电路工业中主要应用于半导体原材料与工业器皿的清洗和光刻掩模版的制备以及作为硅片氧化用的水汽源等。另外，在薄膜和印刷电路、厚膜电路与其他固态电子器件以及真空管的制作都会使用超纯水。

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www.purewaterone.com/article/detail/307.html         2021-12-18

多晶硅超纯水设备如何选择？

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多晶硅超纯水设备主要用在多晶硅片清洗中，多晶硅片、半导体元器件生产中硅片须经过严格清洗，微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有...

www.purewaterone.com/article/detail/306.html         2021-12-17

超纯水设备活性炭过滤器

活性炭过滤系统是利用活性炭的强吸附能力能有效除去水中的臭味、色素、余氯、胶体粒子及有机物等。

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www.purewaterone.com/product/detail/101.html         2021-12-13