很多朋友对半导体超纯水设备并不是很了解，但是半导体超纯水设备在工业的运用越来越方法，例如液晶显示屏的清洗，半导体物件的清洗，线路板焊接用水等在制造过程中都要用到半导体超纯水设备，下面是小编整理的有关半导体超纯水设备的介绍。

传统的超纯水设备是电渗析、离子交换器(阳床、阴床、复床、混床)。我们生产的新型半导体超纯水设备是EDI(连续电除盐技术)设备，可以有效的去除水中几乎全部的阴阳离子，出水电阻率可稳定在15MΩ.CM以上，连续运行、无化学污染、水的利用率高，在超纯水制备工艺上有着强大的优势广阔的应用前景。

所以EDI+反渗透设备适合于工业高纯水，医用超纯水，电子反渗透纯水系统,电子工业用超纯水系统,电镀工业用超纯水系统,实验室用超纯水,食品饮料用超纯水,生物工程超纯水,制造业用超纯水。

半导体行业用超纯水设备主要应用于半导体行业用水，该设备主要由预处理、反渗透、EDI模块和后处理装置组成，可以有效去除原水中的悬浮物、胶体、细菌、金属离子等杂质，出水电阻率可以达到18兆欧以上，完全满足半导体行业用水需求。

半导体行业用超纯水设备工艺

1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象

2、预处理-一级反渗透-加药装置(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象

3、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象

4、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制抛光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(新工艺)

半导体行业用超纯水设备特点

1、整体化程度高、易于扩展、增加膜数量即可增加处理量。

2、自动化程度高，遇故障立即自停，具有自动保护功能。

3、膜组件为复合膜卷制而成，表现出更高的溶质分离率和透过速率。

4、能耗低、水利用率高、运行成本低。

5、结构合理，占地面积少。

6、先进的膜保护系统，在设备关机，淡化水可自动将膜面污染物冲洗干净，延长膜寿命。

7、系统无易损部件，无须大量维修，运行长期有效。

8、设备设计有膜清洗系统用阻垢系统。

半导体行业用超纯水设备性能优势明显，能够连续稳定的制备品质优良的超纯水，不会因为树脂再生而停止运行，超纯水装置结构设计相对靠紧，占地面积小，可以为企业节省很多空间。

以上是关于半导体超纯水设备的介绍，相信大家在看完此文章后对半导体超纯水设备会有进一步的了解，从上面的介绍中我们可以看出半导体超纯水设备因不同的情况，工艺流程也会有所不同。